PVD テクノロジーは、材料の転写を実現する物理プロセスであり、原子または分子をソースから基板の表面に転写します。 この技術により、特殊な特性（高強度、耐摩耗性、放熱性、耐食性など）を備えた粒子を、性能の低いマトリックスに噴霧することができ、マトリックスの性能を向上させることができます。 基本的な PVD 法には、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどがあります。 PVD技術は、緻密で均一なコーティング層、強力な付着力、良好なめっき特性、速い堆積速度、低い処理温度、および幅広いめっき材料の特徴を備えています。 したがって、PVD 技術は表面処理工学の分野で広く使用されており、最良の選択肢の 1 つです。 また、PVDのコーティングプロセス自体も高温のプラズマ場下でのグロー反応であり、高純度のプロセスとなっています。 さらに、PVD 製品の主原料は金属チタンであり、チタンは人間の肌に最も親和性の高い金属の 1 つであり、PVD 製品は純粋な環境性能を備えています。
PVD テクノロジーは何千もの色を生成でき、自然界に見られる色を模倣することもできます。 たとえば、ゴールド シリーズには、ヨーロッパの金 (2N18 および 1N14)、日本の金 (GY01)、中国の金 (GY2N) などがあります。 コーヒーシリーズにはダークコーヒー、ライトコーヒー、ミディアムコーヒーなどが含まれます。ブラックシリーズにはガンカラー、グレー、スーパーブラックなどがあります。 ファッションコレクションにはスペースカラー、シャンパンカラー、カーキなどがあります。 したがって、PVD テクノロジーは色の選択に大きな柔軟性と多様性をもたらします。 PVD 技術とは異なり、水めっき技術は伝統的な電気めっき方法であり、電気化学プロセスを実現する方法です。 めっき槽内で正極と負極を使用し、電流を流して金属または非金属の膜を析出させます。 水めっきは通常、金めっき、銀めっき、ニッケルめっき、クロムめっき、カドミウムめっきなどの表面コーティングを実現できますが、その電気めっき溶液には大きな汚染問題があります。 水めっきには電気めっきと無電解めっきの2種類があり、電気めっきは表面の輝度が高いため表面装飾に適しており、無電解めっきは表面が鈍く、防食塗装に適しています。
真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングが PVD 技術の主な方法です。 このうち真空蒸着法は、高真空下で金属を加熱して溶かし、蒸発させて試料表面に堆積させ、金属膜を形成する方法です。 スパッタリングは通常磁気スパッタリングを指し、約 1×10-3Torr の真空を必要とし、プラスチック基板と金属ターゲットの間に高電圧直流を加え、グロー放電を使用して金属ターゲットの原子を吹き飛ばして堆積させます。それらをプラスチック基板上に置きます。 イオンプレーティングとは、ガス放電によりガスや蒸発物質の一部をイオン化し、ガスイオンや蒸発物質イオンの衝突により蒸着物質やその反応生成物を基板上に堆積させる方法である。 コーティングは、急速電気化学的方法によって金属ワークピースの表面に金属を局所的に析出させる技術であり、原理的かつ本質的には電気化学加工技術に属します。 めっきプロセスでは、電界の作用下で電気めっき溶液によって金属イオンが陰極に堆積され、薄膜が形成されます。 コーティングはクロムメッキやニッケルメッキなどによく使われます。 要約すると、PVD 技術はハイテクな内容であり、広く使用されているイオン コーティング技術であり、可変色、緻密で均一なコーティング、強力な接着、低い処理温度などの多くの利点を備えています。 水メッキやコーティングなどの従来の技術と比較して、PVD技術は高品質で要求の厳しい製品や分野で広く使用されています。
